一、設(shè)備用途：

用于熔煉高熔點金屬/合金，以及真空電弧熔煉制備大批量金屬紐扣錠產(chǎn)品。適用于工廠、高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

1、型號：KDH-1000

2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3、真空系統(tǒng)配置：2X-30機械泵、高真空氣動擋板閥.電阻真空計

4、冷態(tài)極限真空度≤10Pa

5、熔煉電流：額定電流≤1000A

6、熔煉坩堝：設(shè)備配有可旋轉(zhuǎn)紐扣式水冷銅坩堝（21個￠60*30半球形工位窩，容重（樣品重量100-200(克）/熔煉池），帶翻料機構(gòu)，可以翻料重熔和轉(zhuǎn)移樣品

8、工作氣體：Ar氣；

9、腔體尺寸：600*400mm（D*H)

9、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧

10、電極桿和機械手均采用球密封機構(gòu)，簡便有效；電極桿電動升降，操作便攜

11、采用鐘罩式開門，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便，門上有操作觀察窗，帶清掃擦拭裝置，方便清理鏡片污染物。

12、多工位旋轉(zhuǎn)式熔煉，方便操作