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當(dāng)前位置:邁可諾技術(shù)有限公司>>濕法刻蝕顯影清洗機(jī)>>EDC系列濕法刻蝕顯影機(jī)>> WS-1000MLaurell 半導(dǎo)體濕法刻蝕設(shè)備

Laurell 半導(dǎo)體濕法刻蝕設(shè)備

參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號:WS-1000M

品       牌:

廠商性質(zhì):代理商

所  在  地:北京市

更新時(shí)間:2016-01-01 18:00:00瀏覽次數(shù):943次

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自1985年起,Laurell公司向遍布的生物化工和半導(dǎo)體材料科研領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)室提供表面涂敷工藝的解決方案,目前,*有超過15000套系統(tǒng)正在安全運(yùn)行。

    WS-1000M Wet Station半導(dǎo)體濕法刻蝕設(shè)備,全白色聚丙烯構(gòu)造,可內(nèi)置任何Laurell公司的旋涂機(jī)及顯影機(jī),排放簡便的入氮口和DI噴頭,如果需要單工的系統(tǒng),可選擇WS-1000濕法刻蝕設(shè)備,WS-1000系列旋轉(zhuǎn)處理濕法設(shè)備可以被配置成測試模塊構(gòu)造,安裝簡便,易于拆卸,更便于操作者控制。

一、半導(dǎo)體濕法刻蝕設(shè)備功能:
● 涂敷Coating
● 刻蝕Etching
● 顯影Developing - Aqueous / Solvent
● 清洗Cleaning-Aqueous / Solvent
● 可選配, Sulfuric硫化物 / Peroxide雙氧水,溶液處理(insitu mixing)
● 可選配, HBr溶液處理
● 帶溫控的顯影功能
● 沖洗甩干

二、半導(dǎo)體濕法刻蝕設(shè)備特點(diǎn):
● 全PP材質(zhì)構(gòu)造
● 可集成Laurell勻膠旋涂系統(tǒng)
● 有排孔的濕站操作臺 (易清潔)
● 特殊設(shè)計(jì)的濕站壓力系統(tǒng)Wet plenum
● 帶流量計(jì)的排液管道
● 各類組件的隔離設(shè)計(jì)(散熱原件,泵浦和壓力容器等)

三、半導(dǎo)體濕法刻蝕設(shè)備材料選擇:
可以根據(jù)應(yīng)用選擇更高級的材料;
● WS-1000-CP5 符合SEMI S93標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)用在消防安全和潔凈空間等領(lǐng)域。CP5符合UL94 V-O 火災(zāi)分類標(biāo)準(zhǔn)。它具有優(yōu)良的平衡的物理性能,耐化學(xué)藥品性和耐火性。

● WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合zui嚴(yán)格的FMRC 4910測試標(biāo)準(zhǔn),滿足多方面條件下的難燃性,自熄特點(diǎn)和*燃燒。這種*的材料也達(dá)到或超過產(chǎn)生低煙和zui小毒副產(chǎn)品的檢測標(biāo)準(zhǔn)。

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