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CM2000 半導(dǎo)體性碳納米管溶液研磨機(jī)

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半導(dǎo)體性碳納米管溶液研磨機(jī)可以處理量大,運轉(zhuǎn)更平穩(wěn),拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料*通過分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。

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半導(dǎo)體性碳納米管溶液研磨機(jī)單壁碳納米管溶液高速分散機(jī),單壁碳納米管溶液分散機(jī),IKN單壁碳納米管99.9%溶液研磨機(jī),半導(dǎo)體性單壁碳納米管99.9%溶液研磨機(jī),碳納米管分散機(jī),碳納米管分散設(shè)備,碳納米管溶液研磨分散機(jī),高速研磨分散機(jī),單壁碳納米管研磨機(jī),德國進(jìn)口研磨分散機(jī)

  

IKN 研磨分散機(jī)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,在保證冷卻水的前提下,可24小時連續(xù)運行。而普通乳化機(jī)很難做到連續(xù)長時間的運行,并且普通乳化機(jī)不能承受高轉(zhuǎn)速的運行。 

 

半導(dǎo)體性單壁碳納米管作為一維納米材料,重量輕,結(jié)構(gòu)連接*,具有許多異常的力學(xué)、電學(xué)和化學(xué)性能。近些年隨著碳納米管及納米材料研究的深入其廣闊的應(yīng)用前景也不斷地展現(xiàn)出來。

 

半導(dǎo)體性碳納米管溶液性質(zhì)

 

直徑:1.2nm-1.7nm

長度:300nm-5μm

金屬雜質(zhì):<1%

無定型碳:1-5%

 

 

半導(dǎo)體性碳納米管溶液應(yīng)用


復(fù)合材料,電子器件,熒光標(biāo)記

 

 

半導(dǎo)體性碳納米管溶液制備難點

 

目前制備碳納米管的方法很多,然而這些方法所制得的產(chǎn)物中除碳納米管外常常還含有無定形碳、碳納米粒子及催化劑顆粒等雜質(zhì),這些雜質(zhì)的存在直接影響到碳納米管的性能測試及其應(yīng)用研究,因此碳納米管的純化研究十分必要與重要。而不同制備方法所得碳納米管的性質(zhì)以及所引入的雜質(zhì)都不相同,這就增加了碳納米管純化研究的難度。上海IKN/依肯公司結(jié)合該領(lǐng)域研究前沿對碳納米管的制備方法做了深入研究,根據(jù)以往實驗經(jīng)驗*使用IKN碳納米管溶液膠體磨。

 

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半導(dǎo)體性碳納米管溶液研磨機(jī)設(shè)備介紹:

 

IKN研磨機(jī)在碳納米管導(dǎo)分散中有著突出的優(yōu)勢,IKN研磨機(jī)是將膠體磨和分散機(jī)合二為一的設(shè)備,先研磨后分散,可以將碳納米管充分、均勻的分散到溶劑或樹脂當(dāng)中,避免團(tuán)聚,分散更均勻、穩(wěn)定。

 

CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

 

CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

研磨分散機(jī)的特點:

1 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

 

2 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

 

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