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電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 E-beam Evaporation System
電子束蒸發(fā)與熱蒸發(fā)對(duì)比, 能夠在非常高的溫度下熔化材料, 如鎢, 石墨 ... 等等. 結(jié)合石英震蕩片的反饋信號(hào), 可輕松控制蒸發(fā)速率, 以調(diào)節(jié)電子束電流并蒸發(fā)更多材料而不會(huì)破壞真空. 因此, 電子束蒸發(fā)用于薄膜制程領(lǐng)域, 包括半導(dǎo)體, 光學(xué), 太陽(yáng)能電池板, 玻璃和建筑玻璃, 因此它們具有所需的導(dǎo)電, 反射, 透射和電子等特性.
上海伯東代理 SYSKEY 中國(guó)臺(tái)灣矽碁科技電子束蒸鍍?cè)O(shè)備是一種實(shí)用且高度可靠的系統(tǒng), 蒸鍍系統(tǒng)可針對(duì)量產(chǎn)使用單一坩堝也可以有多個(gè)坩堝來(lái)達(dá)到產(chǎn)品多層膜結(jié)構(gòu). 在基板乘載上針對(duì)半導(dǎo)體研究和大型設(shè)備設(shè)計(jì), 單片和多片公自轉(zhuǎn)的設(shè)計(jì)可以控制蒸發(fā)速率, 薄膜厚度和均勻度小于 +/- 3％. 腔體的極限真空度約為 10-8 Torr. 為了獲得盡可能大的制程靈活性, 可以結(jié)合美國(guó) KRi 離子源進(jìn)行離子輔助沉積或者預(yù)清潔等功能.
上海伯東電子束蒸鍍?cè)O(shè)備配置和優(yōu)點(diǎn)
客制化的基板尺寸, 直徑可達(dá) 12寸晶圓
單載片或多載片 (2” x 32個(gè)，4” x 16個(gè)，6” x 6個(gè)，8” x 4個(gè)）
薄膜均勻度小于 ±3％
具有水冷坩堝的多組坩鍋旋轉(zhuǎn)電子束源 (1/2/4/6坩堝）
自動(dòng)鍍膜系統(tǒng)
具有順序操作或共沉積的多個(gè)電子束源
基板具有冷卻 (液態(tài)氮溫度低至-70°C) 或加熱 (溫度800°C) 等功能
電子束蒸鍍?cè)O(shè)備基本參數(shù)
系統(tǒng) | Real 超高真空 | 超高真空 | 高真空 |
極限真空 | 5X10-10 Torr | 5X10-9 Torr | 3X10-7 Torr |
腔室密封 | 全部 CF | 一些密封圈 | 全部密封圈 |
Load-lock | 標(biāo)準(zhǔn) | 標(biāo)準(zhǔn) | 可選 |
E-beam 源 | 4-6 坩堝 7-25 cc | 4-6 坩堝 7-25 cc | 4-6 坩堝 7-25 cc |
基板 | 4-8 英寸 加熱 / 水冷 / 液氮冷卻 | 4-8 英寸 加熱 / 水冷 / 液氮冷卻 | 4-8 英寸 加熱 / 水冷 / 液氮冷卻 |
真空泵 | 低溫泵 | 低溫泵 / 分子泵 | 低溫泵 / 分子泵 |
監(jiān)控 | 真空規(guī) 和 QCM | 真空規(guī) 和 QCM | 真空規(guī) 和 QCM |
工藝控制 | 速率控制 | 速率控制 | 速率控制 |
供氣 | 氮?dú)?/p> | 氮?dú)?/p> | 氮?dú)?/p> |
腔體
由 304不銹鋼所制成, 通過(guò)外部焊接 304不銹鋼管線對(duì)腔體進(jìn)行水冷
寬大的前開(kāi)式門(mén), 并有兩個(gè)窗口和窗口遮版用于觀察基材和電子束源
腔體的極限真空度約為 10-8 Torr
選件
可以與傳送腔, 機(jī)械手臂和手套箱整合在一起
結(jié)合美國(guó) KRi 離子源, 濺鍍槍, 熱蒸發(fā)源, 等離子清潔...
應(yīng)用領(lǐng)域
光學(xué)材料研究 (LED / Laser Diode)
光電元件
半導(dǎo)體元件
對(duì)傳統(tǒng)熱蒸發(fā)技術(shù)難以實(shí)現(xiàn)的材料蒸發(fā), 可采用電子束蒸發(fā)的方式來(lái)實(shí)現(xiàn). 不同于傳統(tǒng)的輻射加熱和電阻絲加熱, 高能電子束轟擊可實(shí)現(xiàn)超過(guò) 3000℃ 的局域高溫, 這使得絕大部分常用材料都可以被蒸發(fā)出來(lái), 甚至是高熔點(diǎn)的材料, 例如, Pt, W, Mo, Ta 以及一些氧化物, 陶瓷材料等. 上海伯東代理的電子束蒸發(fā)源可承載 1-6種不同的材料, 實(shí)現(xiàn)多層膜工藝; 蒸發(fā)源本身防污染設(shè)計(jì), 使得不同材料之間的交叉污染降到盡可能低.
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上海伯東電子束蒸鍍系統(tǒng),蒸發(fā)鍍膜機(jī) E-beam
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