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DE350SIO2 物理實(shí)驗(yàn)室DE350 Sputter 二氧化硅濺射系統(tǒng)

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公司名稱 德儀科技有限公司
品牌
型號(hào) DE350SIO2
所在地 北京市
廠商性質(zhì) 代理商
更新時(shí)間 2015/12/5 13:00:00
訪問次數(shù) 328

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴。

德儀科技有限公司專業(yè)進(jìn)口美國(guó)磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)和脈沖激光真空薄膜沉積設(shè)備，以及磁控濺射源/電源、電子束蒸發(fā)源、濺射靶材和蒸發(fā)材料等。十幾年來，憑著的品質(zhì)，*的技術(shù)和周到的技術(shù)服務(wù)，德儀公司的產(chǎn)品為中國(guó)的高校、科研院所及企業(yè)的薄膜沉積工作提供了有力的支持。
我們期待為您提供您使用的真空薄膜沉積設(shè)備和部件

詳細(xì)信息在線詢價(jià)

前開門濺射腔體
冷凝泵和干泵
1個(gè)6” 磁控濺射源
射頻電源
側(cè)面濺射
zui大6”基片
基片水冷
PID濺射壓力控制
系統(tǒng)手動(dòng)或自動(dòng)控制
高速率濺射二氧化薄膜

！

主要產(chǎn)品：

                 Sputter 磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
                  E-Beam 電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
                  Thermal 熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
                  PLD 脈沖激光鍍膜系統(tǒng)
                  Sputter Sources 磁控濺射陰極
                  DC/RF Power Supply 直流/射頻電源
                  E-Beam Sources 電子束蒸發(fā)源
                  Thermal EVP Sources 熱蒸發(fā)源
                  Deposition Materials 濺射靶材和蒸發(fā)鍍膜材料
                  Sample Manipulator 樣品臺(tái)
                  Feedthroughs 電子穿導(dǎo)器件
                  Vacuum Valves 真空閥門
                  Vacuum Components 真空配件

                  的品質(zhì)、優(yōu)質(zhì)的服務(wù)是我們的宗旨！