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DE400D E-BEAM EVAPORATOR 北京高校實驗室DE400D 電子束蒸發(fā)真空鍍膜儀

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 德儀科技有限公司
  • 品牌
  • 型號 DE400DE-BEAMEVAPORATOR
  • 所在地 北京市
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時間 2015/11/21 14:00:01
  • 訪問次數(shù) 879

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The DE400D Electron Beam Evaporator is assembled with one e-beam source, the substrate is mounting on the top

of the chamber and rotary or on the horizontal axial on the side of chamber for the sub

詳細信息 在線詢價

The DE400D Electron Beam Evaporator is assembled with one e-beam source,  the substrate is mounting on the top 

of the chamber and rotary or on the horizontal axial on the side of chamber for the substrate polar to change the 

deposition angle

DE400D電子束蒸發(fā)儀配置一個電子束蒸發(fā)源,基片架裝于腔體頂部旋轉(zhuǎn)或腔體側(cè)面水平轉(zhuǎn)動的軸上基片可以改變鍍膜角度

 

Configuration

主要配置

Evaporation Chamber

蒸發(fā)腔體

304 stainless steel chamber with viewport

蒸發(fā)腔體為304不銹鋼,并有觀察窗

Vacuum Pumping

真空泵

Cryo-pump or Turbo pump and dry rough pump

配備冷凝泵或分子泵和無油機械泵

Vacuum Valve

真空閥門

Pneumatic HV gate valves

氣動控制高真空插板閥

Evaporation Source

蒸發(fā)源

Multi pocket e-beam source

多坩堝電子束蒸發(fā)源 

Optional Load Lock chamber

樣品室

304 stainless steel chamber with viewport

蒸發(fā)腔體為304不銹鋼,并有觀察窗

Sample Stage 

樣品臺

Top mount and rotary or Side mount polar Substrate

頂部安裝旋轉(zhuǎn)的樣品臺或側(cè)面安裝的轉(zhuǎn)角樣品臺

Film Control

膜厚檢測

Crystal Film thickness Monitor and Control 

晶振膜厚監(jiān)控

Vacuum Gauging

真空測量

Wide range vacuum gauge and rough gauge

寬量程真空計用于測量真空和粗抽計

 

Specification

主要技術(shù)指標

 

The Base Vacuum Pressure

極限真空度

better than 5E-8 Torr

優(yōu)于5E-8

Sample Loading Capacity

裝樣能力

One Max. 8 inch flat substrate or multi small substrate

一個zui大8英寸的平板基片或多個小基片

Rate Resolution

蒸發(fā)速率分辨率

0.05 Angstroms/sec

Thickness Resolution = 0.02 Angstroms

膜厚分辨率

0.02 Angstroms

 

 

 

Features

特點

   

D shape Chamber of front open door for easy inside operation

D型腔體前開門便于腔體內(nèi)部操作和維護

 

Stand along system frameworks and electric rack

獨立的系統(tǒng)機架和電器柜

 

System and e-beam source Water Interlock

系統(tǒng)和電子束蒸發(fā)源冷水安全互鎖

 

 

Optional Substrate Cooling or heating

樣品臺可選水冷或加熱

 

 

 

Typical Application 

典型應(yīng)用 

 

For R&D Thin Film Deposition 

用于薄膜沉積研發(fā)

 

Ideal tools for LIFT-OFF process

用于LIFT-OFF工藝的理想平臺

 

Ideal tools for GLAD process with side mount substrate stage

若采用側(cè)裝樣品臺可用成為GLAD工藝的理想平臺

 

Evaporate metal, Semiconductor or Insulation Materials (material depends)

可蒸發(fā)金屬,半導(dǎo)體或介質(zhì)材料(視具體材料而定)

 

Evaporate Magnetic Materials

可蒸發(fā)磁性材料

 


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