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徠卡低真空鍍膜儀 Leica EM ACE200

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產(chǎn)品詳情樣品進(jìn)行掃描電鏡觀察前,通常需要對其表面鍍一層金屬膜,以便減少觀察時產(chǎn)生的荷電,并增強(qiáng)二次電子或背散射電子信號,獲得更好的信噪比

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產(chǎn)品詳情
樣品進(jìn)行掃描電鏡觀察前,通常需要對其表面鍍一層金屬膜,以便減少觀察時產(chǎn)生的荷電,并增強(qiáng)二次電子或背散射電子信號,獲得更好的信噪比。
Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀,可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發(fā)鍍碳膜功能,或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求,也可用于X-射線能譜及波譜分析,或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。全自動電腦控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等全過程,一鍵操作。采用當(dāng)下非常流行的觸摸屏控制,簡單方便。


主要技術(shù)參數(shù):

· 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式,或者雙模式,可選輝光放電(用于網(wǎng)格表面親水化)
· 設(shè)計(jì)脈沖式碳絲蒸發(fā)方式,可精確控制碳膜厚度
· 可選石英膜厚檢測器,精確控制鍍膜厚度,精度達(dá)0.1nm
· 全自動程序控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等過程
· 觸摸屏控制,簡單方便
· 真空度7×10-3mbar
· 濺射電流:0-150mA可調(diào)
· 方形樣品倉設(shè)計(jì),樣品倉尺寸:140mm(寬)×145mm(深)×150mm(高)
· 工作距離調(diào)節(jié)范圍:30mm-100mm


 


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