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研究型DIC微分干涉工業(yè)顯微JXM-4100

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研究型DIC微分干涉工業(yè)顯微JXM-4100研究型DIC微分干涉工業(yè)顯微鏡JXM-4100是針對半導體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)、冶金工業(yè)需求而開發(fā)的。作為高級金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其性能,可廣泛應用于半導體、FPD、電路封裝、

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研究型DIC微分干涉工業(yè)顯微JXM-4100

研究型DIC微分干涉工業(yè)顯微鏡JXM-4100是針對半導體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)、冶金工業(yè)需求而開發(fā)的。作為高級金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其性能,可廣泛應用于半導體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷部件、精密模具的檢測,可觀察較厚的標本。穩(wěn)定、高品質(zhì)的光學系統(tǒng)使成像更清晰,襯度更好。符合人機工程學要求的設(shè)計,使您在工作中感到舒適和放松。

技術(shù)規(guī)格

觀察頭

30°鉸鏈式三目(50mm-75mm

目鏡

WF10×/25mm

WF10×/20mm,0.1mm十字分劃板

物鏡

平場無限遠長工作距離明暗場物鏡:

5×/0.1B.D/W.D.29.4mm、

10×/0.25B.D/W.D.16mm、

20×/0.40B.D/W.D.10.6mm 、

40×/0.60B.D/W.D.5.4mm

50×/0.55B.D/W.D.5.1mm

80×/0.75B.D/W.D.4mm

100×/0.80B.D/W.D.3mm

轉(zhuǎn)換器

DIC插孔五孔轉(zhuǎn)換器

平臺

雙層移動平臺

平臺尺寸: 190mm×140mm

移動范圍:50mm×40mm

濾色片

插板式濾色片(綠、藍、中性)

調(diào)焦

粗、微動同軸調(diào)焦,采用齒輪齒條傳動機構(gòu) 微動格值0.002mm

光源

帶孔徑光欄和視場光欄,鹵素燈12V/50W, AC85V-230V,亮度可調(diào)節(jié)

偏光裝置

檢偏鏡可360度轉(zhuǎn)動,起偏鏡、 檢偏鏡均可移出光路

檢測工具

0.01mm測量尺

可供附件

可選附件

二維測量軟件

專業(yè)金相圖像分析軟件

鹵素燈12V/100W

測微目鏡

130萬、200萬、300萬、500萬像素CMOS電子目鏡

平場無限遠長工作距離明暗場物鏡:50×/0.55B.D/W.D.5.1mm、

80×/0.75B.D/W.D.4mm、100×/0.80B.D/W.D.3mm

精密載物臺:X-Y行程25mm×25mm,移動精度<5um,數(shù)顯手輪zui小值:0.1um,360°旋轉(zhuǎn)盤

攝影裝置及CCD接口0.5×0.57×、0.75×

DIC10×、20×40×、100×

壓平機

彩色1/3CCD 520條線

特點說明

1 無限遠光學系統(tǒng)。

2 采用長壽命鹵素燈光源的,光效率更高。

3 明暗場、偏光、微分干涉功能。

4 采用非球面Kohler照明,增加觀察亮度。

5 WF10×Φ25)超大視野目鏡、長工作距離明暗場金相物鏡。

6 可插DIC微分干涉裝置的五孔轉(zhuǎn)換器。

DIC:用諾曼斯基微分干涉襯比法觀察,現(xiàn)己被認為檢驗材料、金屬和半導體結(jié)構(gòu)的手段。

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