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環(huán)境掃描電子顯微鏡

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公司名稱 北京依維特技術(shù)服務(wù)有限公司
品牌
型號(hào)
所在地 北京市
廠商性質(zhì) 其他
更新時(shí)間 2024/8/9 14:35:22
訪問(wèn)次數(shù) 32

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2020年01月08日至 2020年02月08日

特價(jià)促銷

模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開(kāi)模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開(kāi)模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴。

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

我也要發(fā)布產(chǎn)品信息

設(shè)備介紹ThermoScientificQuattroESEM將成像和分析的性能與的環(huán)境模式(ESEM)結(jié)合在一起，可在自然狀態(tài)下研究樣品

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設(shè)備介紹

Thermo Scientific Quattro ESEM將成像和分析的性能與的環(huán)境模式(ESEM)結(jié)合在一起，可在自然狀態(tài)下研究樣品。對(duì)于需要在不同平臺(tái)上支持不同經(jīng)驗(yàn)水平和學(xué)科的多個(gè)用戶所需要的多功能性和易用性的學(xué)術(shù)，工業(yè)和政府實(shí)驗(yàn)室，它是理想的選擇，該平臺(tái)還支持的原位實(shí)驗(yàn)。Quattro ESEM具有場(chǎng)發(fā)射槍（FEG)，可確保出色的分辨率，而其三種真空模式(高真空，低真空和ESEM)可靈活地容納各種可用的SEM樣品，包括那些放氣或不兼容真空的產(chǎn)品。

儀器型號(hào)

Quattro ESEM

技術(shù)參數(shù)

束流范圍1 Pa~200 na
加速電壓范圍200 V-30 kV
著陸能量范圍20 eV~30 kev，可選光束減速
放大倍數(shù)6~2500000x
分析工作距離10 mm·
高真空成像0.8納米@30kv(STEM)、1.0 nm@30kv、2.5nm@30KV

案例展示

應(yīng)用范圍

Quattro ESEM 應(yīng)用包括：納米表征：金屬和合金、斷裂、焊縫、拋光切片、磁性和超導(dǎo)電材料、陶瓷、復(fù)合材料、塑料、薄膜/涂層、地質(zhì)切片、礦物、軟材料（聚合物、藥品、濾片、凝膠、組織、植物材料）、顆粒、多孔材料、纖維；原位表征：結(jié)晶/相變、氧化、催化、材料生長(zhǎng)、水合/脫水/潤(rùn)濕/接觸角分析、拉伸（帶加熱或冷卻）。