HMP-2是集預(yù)磨、研磨、拋光于一體的經(jīng)濟(jì)型雙盤(pán)式磨拋機(jī)。它采用過(guò)單片機(jī)技術(shù)通過(guò)薄膜開(kāi)關(guān)面板進(jìn)行控制，磨拋盤(pán)采用直流無(wú)刷電機(jī)進(jìn)行驅(qū)動(dòng)，V帶進(jìn)行傳動(dòng)，具有轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)，噪音低，壽命長(zhǎng)，安全可靠等特點(diǎn)；可以根據(jù)用戶需要來(lái)自行調(diào)整速度，適應(yīng)不同需求；自帶冷卻裝置，可以在研磨時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻，以防止因試樣過(guò)熱而破壞金相組織，適用工廠，科研單位以及大專院校實(shí)驗(yàn)室金相制樣設(shè)備之選。