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簡介：石墨烯生長爐由滑動(dòng)開啟式真空管式爐，混氣系統(tǒng)，真空及壓力系統(tǒng)等組成。通過滑動(dòng)爐體來實(shí)現(xiàn)快速的升降溫；配置不同的真空系統(tǒng)來達(dá)到理想的真空度；同時(shí)通過三路高精度質(zhì)量流量計(jì)控制不同氣體。

簡介：臺(tái)車爐產(chǎn)品參數(shù)正在更新中

簡介：1700℃*管式爐以1700型優(yōu)質(zhì)硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效降低爐殼表面溫度；結(jié)合我司標(biāo)準(zhǔn)真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空...

簡介：1700℃升降氣氛爐產(chǎn)品參數(shù)正在更新中

簡介：哈氏合金反應(yīng)釜產(chǎn)品參數(shù)正在更新中

簡介：1700℃高低溫沖擊試驗(yàn)爐是用于試驗(yàn)件從1600℃到-60℃的快速轉(zhuǎn)換試驗(yàn)。高低溫區(qū)采用絲桿自動(dòng)控制，整個(gè)轉(zhuǎn)換過程在較短時(shí)間內(nèi)完成。設(shè)備區(qū)分為高溫區(qū)、低溫區(qū)、過渡區(qū)三部分，各區(qū)之間?用隔熱處理。低...

簡介：1200℃多工位開啟式管式爐是我司在原有小尺寸多工位管式爐的基礎(chǔ)上改進(jìn)而成的一款新爐型。該爐可在水平或者垂直等多個(gè)工位下工作，操作簡單快捷，實(shí)用性高；結(jié)合我司標(biāo)準(zhǔn)真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛。

簡介：1200℃小型立式管式爐采用智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；雙層殼體結(jié)構(gòu)，設(shè)計(jì)合理，外形美觀，結(jié)構(gòu)緊湊；雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫度；真空級(jí)法蘭密封，結(jié)合我司標(biāo)準(zhǔn)真空、...

簡介：1200℃三溫區(qū)開啟式管式爐采用智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效降低外殼表面溫度；開啟式爐蓋設(shè)計(jì)，可在高溫情況下觀察物料反應(yīng)情況并實(shí)現(xiàn)迅速降溫；真空級(jí)法蘭密...

簡介：實(shí)驗(yàn)電爐PECVD系統(tǒng)主要用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等，也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。