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簡(jiǎn)介：超高真空環(huán)境的特征為其真空壓力低于10-8至10-12托,超高真空環(huán)境對(duì)于科學(xué)研究非常重要,因?qū)嶒?yàn)通常要求在整個(gè)過(guò)程中,表面應(yīng)保持無(wú)污染狀態(tài)并可使用較低能量的電子和離子的實(shí)驗(yàn)技術(shù)使用,而不會(huì)受到氣...

簡(jiǎn)介：上海伯東代理的磁控共濺鍍腔提供了準(zhǔn)確控制多個(gè)磁控濺鍍的制程條件,加裝美國(guó)KRi離子源為客戶提供更好質(zhì)量的復(fù)合式薄膜.單片和多片式的loadingchamber,可節(jié)省其制程腔體的抽氣時(shí)間,進(jìn)而節(jié)省...

簡(jiǎn)介：上海伯東代理剝離成形電子束設(shè)備可以準(zhǔn)確的控制蒸發(fā)速度,因此薄膜厚度和均勻度皆小于±3％,客制化的基板尺寸,zui大直徑可達(dá)12寸晶圓,腔體的極限真空度約為10-8Torr.

簡(jiǎn)介：KT-Z1650CVD是一款小型臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全。配備7寸觸摸屏人工界面，具有電流時(shí)間工藝儲(chǔ)存功能。配備有電壓電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及自動(dòng)電動(dòng)樣品擋板功能...

簡(jiǎn)介：小型離子濺射儀鄭州科探KT-Z1650PVD，能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au/Pd）實(shí)驗(yàn)室用鄭科探KT-Z1650PVD小型磁控濺射儀的薄膜。在...

簡(jiǎn)介：TQC自動(dòng)涂膜機(jī)針對(duì)涂料在測(cè)試圖表、板或薄片上的涂膜，提供一種重復(fù)性和再現(xiàn)性都非常好的可靠基本的涂膜方式，消除了人為因素引起的各種不穩(wěn)定性。速度、壓力和方向等的改變，都會(huì)導(dǎo)致涂膜結(jié)果的不規(guī)律性，另...

簡(jiǎn)介：208HR高分辨率鍍膜儀（離子濺射儀）208HR高分辨離子濺射儀為場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡觀察時(shí)，樣品需鍍上極其薄、無(wú)細(xì)晶且均勻的膜層以消除電荷...

簡(jiǎn)介：208C高真空鍍碳儀Cressington208C高真空鍍碳儀為SEM、TEM、STEM、EDS/WDS、EBSD和微探針?lè)治鎏峁└哔|(zhì)量的鍍膜技術(shù)。系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊，所占空間小。樣品室直徑150mm，...

簡(jiǎn)介：108鍍金鍍碳聯(lián)用儀特別適用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜，同時(shí)又用于掃描電鏡能譜分析。分類(lèi)：電鏡制樣設(shè)備,鍍膜儀標(biāo)簽：離子濺射儀,鍍碳儀,鍍膜儀Brand:TedPella

簡(jiǎn)介：108CAuto/SE鍍碳儀108carbonSE鍍碳儀基于108c鍍碳儀。它包含108c的所有優(yōu)點(diǎn)，但有更大的?150x165mm樣品室，可以放置更大或更多的樣品。108CSE是用于掃描電鏡能譜...