圖形發(fā)生器，適用于您的SEM，F(xiàn)IB或SEM-FIB雙束系統(tǒng)。Raith的ELPHY是非常靈活的，且在可承受的價格上提供了良好的性能。Raith建立了世界范圍久經(jīng)考驗的服務體系，為您更好地使用ELPHY提供了技術保障。

ELPHY MultiBeam 圖形發(fā)生器將在多技術納米加工中的全新進展，和在優(yōu)異的電子束曝光性能基礎上升級出的三維離子束加工相結合，ELPHY MultiBeam在一種分析型的FIB-SEM雙束系統(tǒng)上實現(xiàn)了真正的光刻加工能力。
ELPHY Plus 圖形發(fā)生器更多地被用于場掃描電鏡FE SEM，聚焦離子束系統(tǒng)FIB或SEM-FIB雙束系統(tǒng)上，是一種*的解決方案。它硬件性能優(yōu)異，在高速度直寫過程中，電子信號質量更好。
ELPHY Quantum 圖形發(fā)生器是一種被廣泛采用的解決方案，可用于您的掃描電鏡SEM和聚焦離子束系統(tǒng)FIB上。它性能可靠，功能齊全，且經(jīng)濟實惠。
緊湊的激光干涉工作臺是由Raith自己研制生產(chǎn)的，它幫助克服了掃描電鏡用于光刻的局限性，如對于高級應用掃描電鏡無法實現(xiàn)拼接和精確定位。

您的掃描電鏡和聚焦離子束系統(tǒng)上配備了我們的的電子束光刻圖形發(fā)生器，即使在高速直寫時，技術性能和穩(wěn)定性都非常棒。我們的技術支持工程師團隊將為您提供專業(yè)的培訓，解決技術問題。如果您有任何問題，我們將十分樂意幫助您，為您提供進一步的信息和咨詢。

在80年代末，Raith提供了集成到SEM和FIB系統(tǒng)上的一套商業(yè)機器?，F(xiàn)在，在科研領域，上百套的SEM和FIB系統(tǒng)上集成了我們的圖形發(fā)生器，具備了納米圖型化的能力。

Raith的ELPHY圖形發(fā)生器是非常靈活的，且在可承受的價格上提供了良好的性能。Raith建立了世界范圍久經(jīng)考驗的服務體系，為您更好地使用ELPHY圖形發(fā)生器提供了技術保障。