簡(jiǎn)介
光學(xué)特性從反射和干涉影像中顯現(xiàn)出來(lái)。膜厚測(cè)量?jī)x允許用戶從10nm到250μm分析光學(xué)圖層厚度。用戶可以觀察到一副圖層厚度分辨率達(dá)到0.1nm的單圖。根據(jù)用戶選擇的軟件，用戶可以分析單圖層或者小于二分之一的多圖層，并且可以測(cè)量圖層厚度和半導(dǎo)體加工影像或者增透涂料。
特點(diǎn)
·分析單一或者多層
·分辨率到0.1nm
·適用于原地，在線測(cè)量厚度

簡(jiǎn)介

光學(xué)特性從反射和干涉影像中顯現(xiàn)出來(lái)。膜厚測(cè)量?jī)x允許用戶從10nm到250μm分析光學(xué)圖層厚度。用戶可以觀察到一副圖層厚度分辨率達(dá)到0.1nm的單圖。根據(jù)用戶選擇的軟件，用戶可以分析單圖層或者小于二分之一的多圖層，并且可以測(cè)量圖層厚度和半導(dǎo)體加工影像或者增透涂料。

特點(diǎn)

·分析單一或者多層

·分辨率到0.1nm

·適用于原地，在線測(cè)量厚度

工作原理

兩個(gè)共同的通道用來(lái)測(cè)量膜層特征，光譜反射/傳播和橢圓偏光。膜厚測(cè)量?jī)x利用反射原理來(lái)測(cè)量入射光到達(dá)樣品表面后從薄膜反射過(guò)來(lái)的波段。

通過(guò)n和k搜索

很多圖層可以被認(rèn)定是一個(gè)薄膜的堆積。很多的薄膜和基地原料都能被金屬、電介質(zhì)、非結(jié)晶或者水晶半導(dǎo)體。膜厚測(cè)量?jī)x軟件包含一個(gè)巨大的n和k價(jià)值庫(kù)提供很多的普遍原料。用戶可以編輯和添加數(shù)據(jù)庫(kù)。同樣，用戶可以通過(guò)方程式編程或者散射公式自定義材料類型。

用途

膜厚測(cè)量?jī)x適用于原地在線厚度檢測(cè)和移除速率應(yīng)用程序，并且可以被用來(lái)檢測(cè)氧化物的膜厚度，碳化硅，光阻材料和其他半導(dǎo)體薄膜處理。膜厚測(cè)量?jī)x可檢測(cè)增透膜涂層、耐摩擦涂層和粗糙涂層。

膜厚測(cè)量?jī)x

反射計(jì)應(yīng)用軟件，需求下面項(xiàng)目

如果應(yīng)用放大鏡，則需求下面的選項(xiàng)