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LC 硅片超聲波清洗機

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硅片超聲波清洗機用于晶圓片擴散、蒸發(fā)、CAV生產前的清洗處理。該機共有六種清洗方式可供選擇,清洗程序為純水清洗、*清洗、冷熱純水沖洗、酸洗(HF)、純水清洗。

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硅片超聲波清洗機概述:

該設備用于晶圓片擴散、蒸發(fā)、CAV生產前的清洗處理。該機共有六種清洗方式可供選擇,清洗程序為純水清洗、*清洗、冷熱純水沖洗、酸洗(HF)、純水清洗。其工藝性能指標及可靠性*達到進口同類設備水平,但價格、售后服務、備品備件的供給等是進口設備*的。

硅片超聲波清洗機主要特點:

采用進口PP板制作。

適用2-6寸硅片清洗。

超聲功率強勁,性能穩(wěn)定。

超聲波清洗原理:

由超聲波發(fā)生器所發(fā)出的高頻超聲振蕩信號,通過換能器轉換成高頻機振蕩而傳播到介質—清洗溶劑中,利用超聲波在清洗溶劑中的“空化作用”,使液體流動而產生數(shù)以萬計的小氣泡,這些氣泡在超聲波縱向傳播成的負壓區(qū)形成、生長,而在正壓區(qū)迅速破裂,就是在這種被稱為“空化”效應的過程中氣泡破裂產生超過1000個大氣壓的瞬間高壓,連續(xù)不斷產生的瞬間高壓產生一串小“爆炸”不斷地沖擊被清洗物體的表面,孔隙、縫道,使物體表面及縫隙中的污垢迅速剝落,從而達到被清洗物件凈化的目的。因此利用超聲波清洗質量好、速度快。對一般常規(guī)清洗方法,可達到清潔度要求,尤其對幾何形狀比較復雜,帶有各種小孔,彎孔和盲孔等被清洗物件,采用超聲波清洗的潔凈效果更為明顯。

山東聯(lián)超電子設備有限公司

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