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SKCC-GZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭(公、自旋轉(zhuǎn)靶頭)

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產(chǎn)品簡介:SKCC-GZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭(公、自旋轉(zhuǎn)靶頭)適用靶材種類較廣,如金屬/絕緣靶或磁性/非磁性靶材。配裝有環(huán)形永磁體在頭上,以保證濺射鍍膜的效率和均勻性??膳cDC或RF電源配合使用。

 

產(chǎn)品型號

SKCC-GZB-X(高真空磁控濺射公、自旋轉(zhuǎn)靶頭)

產(chǎn)品規(guī)格

1寸,SKCC-GZB-1

2寸,SKCC-GZB-2

3寸,SKCC-GZB-3

4寸,SKCC-GZB-4

注:其它尺寸可以訂制

主要特點

1、轉(zhuǎn)靶帶擋板(可實現(xiàn)每次露出一個工作的靶,避免交叉污染);

2、采用電磁場的有元計算法來設(shè)計永磁體,以得到較高的磁場強度和均勻分布;

3轉(zhuǎn)靶轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分可調(diào);

4、標準的HN型接頭,可與DCRF電源相匹配;

5、安裝采用標準真空法蘭(CF金屬密封或Dg膠圈密封可選);

6、靶材更換較為簡單,無需調(diào)整濺射頭的高度。

配套電源

1、直流DC;2、射頻RF


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