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MRC643 MRC643真空鍍膜機(jī)

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公司名稱(chēng) 深圳市昊光機(jī)電科技應(yīng)用有限公司
品牌
型號(hào) MRC643
所在地 深圳市
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間 2016/1/2 9:00:01
訪問(wèn)次數(shù) 545

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴(lài)度；傳統(tǒng)的塑膠模具開(kāi)模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開(kāi)模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴(lài)。

設(shè)備名稱(chēng)：MRC643真空濺射鍍膜機(jī)
設(shè)備品牌：美國(guó)MRC
設(shè)備規(guī)格：MRC643
設(shè)備介紹：
MRC643采用*的立式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及特殊結(jié)構(gòu)的陰極，可實(shí)現(xiàn)高濺射，膜厚均勻性和高靶材有效使用率，從研發(fā)應(yīng)用到大批量生產(chǎn)，可沉積介質(zhì)膜、金屬膜等，主要用于集成電路制造、平板顯示器、光刻掩膜版、通訊網(wǎng)絡(luò)、化合物半導(dǎo)體器件、射頻功率器件和光電子器件等。
本系統(tǒng)可分為預(yù)真空室、濺射區(qū)域、RF離子清洗，預(yù)真空室具

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設(shè)備名稱(chēng)：MRC643真空濺射鍍膜機(jī)

設(shè)備品牌：美國(guó)MRC

設(shè)備規(guī)格：MRC643

設(shè)備介紹：

MRC643采用*的立式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及特殊結(jié)構(gòu)的陰極，可實(shí)現(xiàn)高濺射，膜厚均勻性和高靶材有效使用率，從研發(fā)應(yīng)用到大批量生產(chǎn)，可沉積介質(zhì)膜、金屬膜等，主要用于集成電路制造、平板顯示器、光刻掩膜版、通訊網(wǎng)絡(luò)、化合物半導(dǎo)體器件、射頻功率器件和光電子器件等。

本系統(tǒng)可分為預(yù)真空室、濺射區(qū)域、RF離子清洗，預(yù)真空室具有基片承載盤(pán)升降機(jī)，使得裝卸基片和濺射工藝同時(shí)進(jìn)行，從而實(shí)現(xiàn) “in-line”連續(xù)在線工作方式。12”x12”尺寸的基片承載盤(pán)，可放置不同尺寸及形狀的基片。9個(gè)4” 基片/次，6個(gè)6” 基片/次，1個(gè)12” 基片/次。