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MRC943真空磁控鍍膜機(jī)

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MRC943采用*的臥式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及特殊結(jié)構(gòu)的陰極,可實(shí)現(xiàn)高濺射,高均勻性及高靶材有效使用率,適合從研發(fā)應(yīng)用到大批量生產(chǎn),可沉積介質(zhì)膜、金屬膜等材料,主要用于集成電路制造、平板顯示器、LOW-E玻璃、ITO、TFT、光刻掩膜版、通訊網(wǎng)絡(luò)、化合物半導(dǎo)體器件、射頻功率器件和光電子器件等。

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1、設(shè)備名稱:MRC943真空濺射鍍膜機(jī)
2、設(shè)備介紹:
MRC943采用*的臥式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及特殊結(jié)構(gòu)的陰極,可實(shí)現(xiàn)高濺射,高均勻性及高靶材有效使用率,適合從研發(fā)應(yīng)用到大批量生產(chǎn),可沉積介質(zhì)膜、金屬膜等材料,主要用于集成電路制造、平板顯示器、LOW-E玻璃、ITO、TFT、光刻掩膜版、通訊網(wǎng)絡(luò)、化合物半導(dǎo)體器件、射頻功率器件和光電子器件等。
本系統(tǒng)可分為預(yù)真空室、濺射區(qū)域、RF離子清洗平臺(tái),預(yù)真空室具有基片承載盤(pán)升降機(jī),使得裝卸基片和濺射工藝同時(shí)進(jìn)行,從而實(shí)現(xiàn) “in-line”連續(xù)在線工作方式。
3、設(shè)備主要參數(shù)
   1、設(shè)備整體尺寸:1795mm*590mm*210mm(寬**高)
2、真空系統(tǒng):粗抽泵+冷凝泵高真空系統(tǒng),極限真空達(dá)到3*10-7mabr。
3、工件尺寸:300mm*300mm
4、工作節(jié)拍:8分鐘/爐;鍍鋁為例
5、濺射電源:AE MDX直流電源 2臺(tái),AE RFG3001射頻電源 1臺(tái)
6、濺射及清洗匹配:全自動(dòng)
7、氣體控制:MKS 質(zhì)量流量控制器 3
8、真空檢測(cè):MKS 薄膜壓力規(guī)
9、加熱系統(tǒng):紅外加熱 3KW
10、控制方式:全自動(dòng)控制系統(tǒng)
4、鍍膜種類
   該設(shè)備可以鍍TiNi、Cr、AlCu、AZO 、ITO 、Mo
 


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