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Park NX-Hivac通過為失效分析工程師提供高真空環(huán)境來提高測量敏感度以及原子力顯微鏡測量的可重復性。與一般環(huán)境或干燥N2條件相比，高真空測量具有準確度高、可重復性好及針尖和樣本損傷低等優(yōu)點，因此用戶可測量各種故障分析應用中許多信號響應，例如掃描擴散電阻顯微術(SSRM)的摻雜物濃度。Park NX-Hivac使得真空環(huán)境中高精確度和高分辨率測量的材料科學研究遠離氧氣與其它藥劑的影響，在高真空條件下執(zhí)行掃描擴散電阻顯微鏡測量可減少所需的針尖-樣本相互作用力，從而大幅度降低對樣本和針尖的損傷。
如此可延長各針尖的使用壽命，使掃描更加低成本和便捷，并通過提高空間分辨率和信噪比得到更為精確的結(jié)果。因此，利用NX-Hivac進行的高真空掃描擴散電阻顯微術測量可謂是故障分析工程師增加其吞吐量、減少成本和提高準確性的明智選擇。
基本技術參數(shù)
掃描儀 | 光學顯微鏡 | 樣品臺 |
XY掃描儀：50 μm x 50 μm （100 μm x 100 μm可選） | 物鏡：10x 5M pixel CCD | XY平臺行程：22 mm x 22mm 樣品大?。?/span>50mm x 50mm，厚度20 mm |
物理信息 | 軟件 | 高真空 |
真空室：300mm x 420mm x 320mm | SmartScan：Park AFM操作軟件 XEI: AFM數(shù)據(jù)分析軟件 Hiva Manager:自動真空控制軟件 | 真空等級：小于 1 x 10-5 torr 泵速：5 min內(nèi)達到10-5 torr |
主要功能
用于失效分析應用的高真空掃描
Park NX-Hivac允許故障分析工程師通過高真空SSRM提高的靈敏和分辨率。高真空掃描能提供比大氣或干燥的N2條件下更高的精度，更好的可重復性，還能減少針尖和樣品損傷 ，用戶從而可以在失效分析應用中測量更廣闊范圍的涂料濃度和信號強度，
高級的自動化特征
用戶所需的輸入操作簡單，用戶可以更快地掃描從而提高實驗室的實驗成果。
應用
在二維金屬材料電性能方面的研究
C-AFM inAir vs High Vacuum MoS2
在空氣和真空下MoS2 的AFM 圖
相關文獻
Jonathan Ludwig et al，”Effects of buried grain boundaries in multilayerMoS2”Journal：Nanotechnology, Volume 30, Number 28.
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