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離子研磨儀 ArBlade 5000

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ArBlade 5000是日立離子研磨儀的高性能機(jī)型。它實(shí)現(xiàn)了超高速截面研磨。高效率截面加工功能,使電鏡截面觀察時樣品加工更簡單。

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離子研磨儀 ArBlade 5000

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離子研磨儀 ArBlade 5000

ArBlade 5000是日立離子研磨儀的高性能機(jī)型。
它實(shí)現(xiàn)了超高速截面研磨。
高效率截面加工功能,使電鏡截面觀察時樣品加工更簡單。

  • 特點(diǎn)

  • 規(guī)格

特點(diǎn)

截面研磨速率高達(dá)1 mm/h*1!

新研發(fā)的PLUSII離子槍發(fā)射出高電流密度離子束,大幅提高*2了研磨速率。

*1
Si突出遮擋板邊緣100 µm,1個小時大加工深度
*2
研磨速率是本公司產(chǎn)品(IM4000PLUS:2014生產(chǎn))的2倍

截面研磨結(jié)果對比
(樣品:自動鉛筆芯、研磨時間:1.5小時)

本公司產(chǎn)品IM4000PLUS
本公司產(chǎn)品IM4000PLUS

ArBlade 5000
ArBlade 5000

大截面研磨寬度可達(dá)8 mm!

使用廣域截面研磨樣品座,加工寬度可達(dá)8 mm,十分適用于電子元件等的研磨。

復(fù)合型研磨儀

IM4000系列復(fù)合型(截面研磨、平面研磨)離子研磨儀*。
可根據(jù)需求對樣品進(jìn)行前處理。

截面研磨

切割或機(jī)械研磨難以處理好的軟材料或復(fù)合材料的截面制作

平面研磨

機(jī)械研磨后樣品的精修或表面清潔

截面研磨加工示意圖
截面研磨加工示意圖

平面研磨加工示意圖
平面研磨加工示意圖

規(guī)格

規(guī)格
通用
使用氣體Ar(氬)氣
加速電壓0~8 kV
截面研磨
研磨速率(材料Si)1 mm/hr*1以上含 1 mm/hr*1
大研磨寬度8 mm*2
大樣品尺寸20(W) × 12(D) × 7(H) mm
樣品移動范圍X ±7 mm、Y 0~+3 mm
離子束間歇加工功能標(biāo)準(zhǔn)配置
擺動角度±15°、±30°、±40°
平面研磨
大加工范圍φ32 mm
大樣品尺寸φ50 × 25(H) mm
樣品移動范圍X 0~+5 mm
離子束間歇加工功能標(biāo)準(zhǔn)配置
旋轉(zhuǎn)速度1 r/m、25 r/m
傾斜角度0~90°
*1
Si突出遮擋板邊緣100 µm,1個小時大加工深度
*2
使用廣域截面研磨樣品座時

選配

規(guī)格
項(xiàng)目內(nèi)容
高耐磨遮擋板耐磨遮擋板是標(biāo)準(zhǔn)遮擋板的2倍左右(不含鈷)
加工監(jiān)測用顯微鏡放大倍率 15×~100× 雙目型、三目型(可加裝CCD)

關(guān)聯(lián)產(chǎn)品分類

  • 場發(fā)射掃描電子顯微鏡 (FE-SEM)
  • 掃描電子顯微鏡 (SEM)
  • 透射電子顯微鏡 (TEM/STEM)


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