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日本electron臺式快速涂布機SC-708系列

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日本electron臺式快速涂布機SC-708系列
離子濺射設(shè)備，用于大型基材的全涂層
濺射靶材的尺寸為1英寸，例如4'/ 5'/ 6'/ 7'/ 8'。
在形成微通道流動路徑以及濺射薄膜制造時支持PDMS表面處理
配備涂布模式/蝕刻模式

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日本electron臺式快速涂布機SC-708系列

日本electron臺式快速涂布機SC-708系列

日本electron臺式快速涂布機SC-708系列

 

 

特征

  • 離子濺射設(shè)備，用于大型基材的全涂層
  • 濺射靶材的尺寸為1英寸，例如4'/ 5'/ 6'/ 7'/ 8'。
  • 在形成微通道流動路徑以及濺射薄膜制造時支持PDMS表面處理
  • 配備涂布模式/蝕刻模式
 

應(yīng)用/結(jié)果示例

  • 各種設(shè)備的電極膜附件
  • 反光膜的制造應(yīng)用
  • 樣品表面親水處理的應(yīng)用（蝕刻模式）
  • PDMS表面處理應(yīng)用程序（蝕刻模式）等
 

基本規(guī)格

陰極φ4-8英寸/ 2極電極
濺射電流
蝕刻電流		0-50mA（包括電流表）
濺射電壓
蝕刻電壓		0.8 / 1.4kV
氣體導(dǎo)入機制針閥
真空泵直連式旋轉(zhuǎn)泵：100l / min（有自動泄漏）
箱體尺寸內(nèi)徑φ240mmx D240mm（SUS制）
樣品交換方法前門開合式
樣本量大φ4?8英寸
尺寸（寬/深/高）主體：282/450 / 440mm 
RP：460/175 / 265mm
重量身體：約20kg 
RP：23kg
 
  

特殊規(guī)格示例

SC-704AT
SC-704AT
薄膜厚度可控的全自動模型		 SC-704MC
采用SC-704MC
磁控管陰極模型
（無蝕刻/交流濺射功能）

深圳市秋山貿(mào)易有限公司

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