低溫催化-高溫除氮型純化系統(tǒng)

此純化系統(tǒng)使用自制催化劑,此催化劑使用壽命長，純化深度高，抗原料氣瞬間波動能力強;采用物理吸附和化學反應工藝，先在室溫下將惰性氣體和氫氣（H2）中大量雜質H2O、O2、CO、CO2脫除，然后再通過高溫吸氣塔將殘余的雜質及N2脫除，使出口純氣雜質除到1ppb以下 。此設備具有使用壽命長，操作簡單等特點。

產品性能

◎適合與不低于99.999%純度的原氣配合使用。                              

◎此產品為雙式結構，一組工作，另一組再生備用                            

◎純化深度高，出口各種雜質含量＜1ppb    

◎電化學拋光316（L）不銹鋼                    

◎內置0.003微米高效過濾器

◎此純化器配置有預純化塔，在貴重消耗型吸氣劑塔之前除去大量的雜質，這樣能延長貴重消耗型吸氣劑的使用壽命

產品應用 

◎高純單晶硅、晶片外延、大規(guī)模集成電路、光電產品生產等電子工業(yè)氣體終端純化                      

◎半導體工藝設備：CVD、MOCVD、HVPE、擴散爐等  

◎大宗氣體純化

系統(tǒng)參數(shù)