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UV納米壓印機

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高精度自動脫模UV機納米壓印技術(shù)是上世紀90年代StephenYChou,針對傳統(tǒng)光刻受波長限制提出的類似于模板刻印的一種技術(shù)

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高精度自動脫模UV

 

納米壓印技術(shù)是上世紀90年代Stephen Y Chou,針對傳統(tǒng)光刻受波長限制提出的類似于模板刻印的一種技術(shù)。它的原理是:將具有納米結(jié)構(gòu)的模板通過一定壓力,壓入加熱的熔融的高分子薄膜內(nèi),待高分子材料冷卻,納米結(jié)構(gòu)定型,移去模板,然后再通過等離子體刻蝕等傳統(tǒng)的微電子加工手段把結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到基底上。 過程如下圖所示:

由于熱壓印需要采用較高壓力,容易損壞模板,不利于模板多次使用,并且由于材料和襯底熱系數(shù)并不相同,容易造成納米結(jié)構(gòu)缺陷,于是G.G.Willson 提出了紫外固化壓印。該設(shè)備主要原理是:使用低粘度,流動性好的聚合物滴到基板上,利用液體*的毛細現(xiàn)象,使光刻膠充滿模板,然后通過紫外光照射使其固化,然后脫模,刻蝕。過程如下圖所示

到目前為止壓印技術(shù)已經(jīng)發(fā)展出來多種類型,典型的包括熱塑壓印技術(shù)、紫外固化壓印、微接觸納米壓印、激光輔助納米壓印和滾軸式納米壓印技術(shù)等。

為了滿足市場日益增長對納米壓印的需求,上海昊量推出了UV納米壓印機。

該設(shè)備是基于紫外固化的納米壓印機,可提供2英寸;4英寸和6英寸不等的壓印尺寸。分辨率可做到由于10nm,并且擁有99%產(chǎn)率。

該設(shè)備的之處是已獲得zuanli的自動脫模技術(shù)。該設(shè)備可以通過軟件調(diào)節(jié)納米壓印腔體內(nèi)外的壓力,是模板從襯底上自動脫模。并且可避免分離過程中造成基底和模板的損壞。

該產(chǎn)品擁有以下優(yōu)勢:

l  分辨率優(yōu)于10μm,產(chǎn)率優(yōu)于99%

l  同時適用于軟模和剛性模板

l  自動脫模,防止模板和基板損壞

l  可壓印不同尺寸的模板和基片,方便靈活

l  可編程的PLC觸屏界面

l  對準選項

應(yīng)用實例:

產(chǎn)品參數(shù):


AUV-200

AUV-400

AUV-600

Substrate   size

2 inch standard

4 inch standard

6 inch standard

Imprint   area

Same as   wafer size

Imprint   pressure

1 psi standard

UV   exposure time

2-3 min   at 95% intensity level



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