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GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介:GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀依據(jù)二極DC直流濺射原理(二極濺射鍍膜是指在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材產(chǎn)生的濺射效應(yīng),使得靶材原子或分子從固體表面射出,在基片上沉積形成薄膜的過(guò)程。屬于物理氣相沉積(PVD)制備薄膜技術(shù)的一種。)設(shè)計(jì)而成的簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備,適用于實(shí)驗(yàn)室各種復(fù)合膜樣品的制備,以及非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀可用于實(shí)驗(yàn)室制備掃描電鏡樣品使用,且設(shè)備體積小巧,節(jié)約實(shí)驗(yàn)室空間;操作簡(jiǎn)單,適合初學(xué)人員使用。

 

產(chǎn)品名稱

GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀

產(chǎn)品型號(hào)

GSL-1100X-SPC-16M

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:設(shè)備需選配自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)

2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地

3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(帶減壓閥)

4、工作臺(tái):尺寸600mm×600mm×700mm承重50kg以上

5、通風(fēng)裝置:不需要

主要特點(diǎn)

1、設(shè)有真空表、濺射電流表,可實(shí)時(shí)監(jiān)控工作狀態(tài)。

2、通過(guò)調(diào)節(jié)濺射電流控制器、微型真空氣閥,控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及選擇所需要的電離氣體,獲得鍍膜效果。

3、鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設(shè)計(jì),可保證長(zhǎng)期使用不出現(xiàn)玻璃鐘罩崩邊現(xiàn)象

4、陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經(jīng)久耐用。

5根據(jù)電場(chǎng)中氣體電離特性,采用大容量濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶,使濺射鍍層更均勻純凈。

6、濺射頭采用Peltier制冷技術(shù),可得到高性能、精細(xì)顆粒的涂層。

7、可用水冷濺射頭、水冷載物臺(tái)。

技術(shù)參數(shù)

1、Ø50mm

2真空室Ø160mm×120mm

3、真空度:≤4×10-2mbar

4、max電流50mA可選100mA

5可設(shè)定極限時(shí)間:9999s

6、微型真空氣閥:連接Ø3mm軟管

7、極限電壓:1600V  DC

8、機(jī)械泵:2L/s

產(chǎn)品規(guī)格

尺寸:360mm×300mm×380mm。

整體重量:50Kg

主機(jī)凈重:15Kg

標(biāo)準(zhǔn)配件

1

金靶材

1個(gè)

2

進(jìn)氣針閥

1個(gè)

3

保險(xiǎn)絲

2個(gè)

可選配件

金、銦、銀、鉑等各種靶材

 

 


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