公司介紹
德國HP Spectroscopy公司成立于2012年，致力于為科研及工業(yè)領(lǐng)域的客戶定制解決方案，是科學(xué)儀器的供應(yīng)商和開發(fā)商。產(chǎn)品線包括XAS系統(tǒng)，XUV/VUV/X-ray光譜儀，beamline產(chǎn)品等。主要團(tuán)隊(duì)由x射線、光譜、光柵設(shè)計(jì)、等離子體物理、beamline等領(lǐng)域的專家組成。并與的研究機(jī)構(gòu)的科學(xué)家維持緊密合作，關(guān)注前沿技術(shù)，保持產(chǎn)品的迭代與創(chuàng)新。
產(chǎn)品簡介
HiXAS提供了完整的基于實(shí)驗(yàn)室拓展X射線精細(xì)結(jié)構(gòu)吸收譜(EXAFS)和X射線近邊結(jié)構(gòu)吸收譜（XANES）的解決方案。在較小的占地面積內(nèi)，它集成了X射線光管光源、高分辨光譜儀、光子技術(shù)像素化X射線探測器，以及用于儀器控制和數(shù)據(jù)的分析的控制軟件。
由于hiXAS的光譜質(zhì)量于同步輻射測量的結(jié)果相當(dāng)，使得冗長的同步輻射測量機(jī)時申請和等待變得不再有必要。
X射線光管光源和光譜儀可以覆蓋的能量范圍為5-12KeV，因此包括了3d過度金屬的K吸收邊。專門優(yōu)化的HAPG Von Hamos光譜儀結(jié)構(gòu)可以獲得信噪比的光譜。因此，可分析的樣品濃度可以低至數(shù)個質(zhì)量百分比。同時光譜儀在覆蓋的吸收邊范圍內(nèi)，保持很高效率和恒定的高分辨率（E/ΔE = 4000）。我們還可以根據(jù)您的各種應(yīng)用需要，提供定制化的hiXAS系統(tǒng)。
hiXAS可用于EXAFS和XANES測量的元素范圍。HiXAS可以在幾分鐘的時間內(nèi)測量出分析物濃度僅為幾個重量百分比的稀釋樣品。
測量結(jié)果
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hiXAS可以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的數(shù)據(jù)采集，能量分辨率與同步輻射相當(dāng) | 
單原子催化劑Zn k邊XANES光譜。在分析物濃度低至1wt%的情況下，獲得了與高質(zhì)量的XANES光譜。hiXAS可以測量稀釋的樣品，提高對氧化狀態(tài)的識別能力 |
hiXAS對元素具有較高的靈敏性，能夠通過吸收邊能量位置實(shí)現(xiàn)對元素電子結(jié)構(gòu)及價態(tài)分析。 | 
hiXAS可以測量低濃度樣品，以上為Co樣品XANES光譜。 |
應(yīng)用案例
 
Cu箔樣品X射線吸收測量，采集時間:3分鐘含樣品，1.5分鐘不含樣品 C. Schlesiger et al, Recent progress in the performance of HAPG based laboratory EXAFS and XANES spectrometers, J. Anal. At. Spectrom. 35, 2298 (2020) |
(a-b) 使用實(shí)驗(yàn)室臺式 XAFS 譜儀測得的 DRM 反應(yīng)前后 Sm1.5Sr0.5NiO4 材料的 Ni K 邊 XANES 譜圖對比；(c-d) 使用實(shí)驗(yàn)室臺式XAFS譜儀測得的DRM反應(yīng)前后 Sm1.5Sr0.5NiO4 材料的 Sm L3 邊及 Sr K 邊 XANES 譜圖對比。 |
 
(b) 使用實(shí)驗(yàn)室臺式XAFS 譜儀 hiXAS測得的 Co，Co3O4 及macro-TpBpy-Co 的 Co K 邊吸收譜圖；(c-d) 相應(yīng)的通過傅里葉變化得到的 R 空間變換譜圖。 |
