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美國 紫外臭氧清洗機UVO系列 T10x10/OES

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紫外臭氧清洗工作原理:清洗設(shè)備的核心是低壓石英汞燈,產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產(chǎn)生,有機污染物分子在吸收254nm波長紫外線后被激發(fā)或分解。激發(fā)的有機污染物可以和等離子氧原子反應(yīng)形成氣體,比如CO2,H2O等。整個過程在室溫**發(fā)生,并且只需要1到幾分鐘完成。

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紫外臭氧清洗工作原理:

清洗設(shè)備的核心是低壓石英汞燈,產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產(chǎn)生,有機污染物分子在吸收254nm波長紫外線后被激發(fā)或分解。激發(fā)的有機污染物可以和等離子氧原子反應(yīng)形成氣體,比如CO2,H2O等。整個過程在室溫**發(fā)生,并且只需要1到幾分鐘完成。

*注1:白色氧化鋁暴露在UV能量下會變黃。這種現(xiàn)象是由于基材吸收UV能量, 而不是一種涂層。這種氧化鋁在加熱情況下會轉(zhuǎn)化為他原來的顏色。

**注2:清洗元件溫度的上升取決清洗過程的時間長度。在大多數(shù)應(yīng)用,元件溫度可以視為室溫。


UV紫外臭氧清洗的特點:

· 超潔凈表面

· 室溫操作

· 快速-大多數(shù)應(yīng)用10分鐘內(nèi)可完成

· 運行簡單

· 超低采購成本和zui小運行成本

· 10×10 英寸(25.4×25.4cm)

· 220


T10X10紫外臭氧清洗機是一款臺式的紫外臭氧清洗設(shè)備。通過紫外線(185nm和254nm)和臭氧清洗基材表面,能夠簡單,經(jīng)濟,快速獲得超潔凈表面。能去除大多數(shù)無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁*等)上的有機污染物。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時,紫外清洗非常理想。獲得超潔凈的表面,只需要在傳統(tǒng)清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘。


T10X10紫外臭氧清洗機的屬性:

UVOC紫外清洗機


Model

型號  

T10x10/OES

光照尺寸

10" x 10"(25.4×25.4cm)

有效面積:

100 sq. in.

寬:

14"

深:

23 3/4"

高:

14.5"

托盤推出深度:

33"

滑行托盤:

1

結(jié)構(gòu):

箱體和托盤為不銹鋼結(jié)構(gòu)

功耗:

110Vac / 60Hz 5A Max  or 230Vac / 50Hz 2.5 amp Max

臭氧排氣系統(tǒng):

有臭氧排氣系統(tǒng)

排氣口尺寸:

3" 直徑

排氣需要:

100cfm

定時器:

在開始或結(jié)束時峰鳴

"ON"指示器:



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