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深紫外光致發(fā)光光譜儀(Deep UV PL)

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美國PhotonSystems公司成立于1999年,一直專注于深紫外激光器、非相干深紫外光源及深紫外熒光、拉曼系統(tǒng)的研發(fā)和生產(chǎn),得到了美國國家航空、、和美國國家科學(xué)基金會的政府資助

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美國Photon Systems公司成立于1999年,一直專注于深紫外激光器、非相干深紫外光源及深紫外熒光、拉曼系統(tǒng)的研發(fā)和生產(chǎn),得到了美國國家航空、、和美國國家科學(xué)基金會的政府資助。該公司搭載248.6 nm激光器的深紫外拉曼和熒光光譜儀被選中參與2020年美國飛往火星計劃。

美國Photon Systems公司的MiniPL深紫外光致發(fā)光光譜儀采用自主研發(fā)的深紫外激光器224nm或248.6nm作為激發(fā)源,配合緊湊的光學(xué)設(shè)計,非常適合寬禁帶半導(dǎo)體材料的研究。MiniPL可被用于表征半導(dǎo)體材料摻雜水平、合成組分分析、帶隙分析等,不僅可用于科研領(lǐng)域,也可用于半導(dǎo)體LED產(chǎn)業(yè)中的品質(zhì)檢測。

主要參數(shù)及特點(diǎn)

· 激光器:224nm (5.5 eV)或 248.6nm (5.0 eV)

· 光譜范圍:230-650nm@224nm激發(fā))或250-650nm@248.6nm激發(fā))

· 分辨率:0.7nm@1200g/mm光柵,標(biāo)配)

0.2nm@3600g/mm光柵,選配)

· 探測器:高靈敏度PMT

· 采集器:門閘積分平均器Boxcar

· 光譜分析軟件(LabView):半峰寬、峰值波長副峰鑒別、背景扣除、歸一化等

· 可測量50mm直徑樣品,標(biāo)配XYZ三維手動可調(diào)樣品臺

· 體積:15 x 18 x 36cm,重量:<8Kg

升級選項:

· X-Y電動樣品臺,實現(xiàn)Mapping功能

· 低溫制冷機(jī):10K-325K或77K-600℃可選


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