一、設(shè)備用途：

用于 富勒烯，碳納米烯，石墨烯等納米材料的研發(fā)制備生產(chǎn)等使用，也廣泛應(yīng)用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及材料的提純等

二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

1、型號(hào)：KDH-2000

2、電弧熔煉室：臥式圓筒型真空室

3、真空系統(tǒng)配置：由2X-30旋片式機(jī)械泵、TK-200擴(kuò)散泵、三臺(tái)高真空閥門和各種管路組成高真空系統(tǒng)真空度可達(dá)6.7*10-3pa

4、冷態(tài)極限真空度≤6.7x10E-3Pa

5、自耗電流：額定電流2000A（電源客戶自備）

6、熔煉工位：兩工位安裝在同一真空腔室，可***工作

7、工作氣體：Ar氣；

8、電極升降方式：伺服電動(dòng)升降

9、電極升降速度：慢速升降速度：0~60mm/min

快速升降速度：0-300mm/min

10、引弧方式：高頻引弧

11、爐體側(cè)部開(kāi)門，裝卸料方便省去上部打開(kāi)爐蓋裝卸料的不便，爐體上有兩個(gè)觀察視窗?？汕宄吹綘t內(nèi)工作情況，