一、設(shè)備簡介

　　真空磁懸浮熔煉爐主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬，在冶金和高材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了廣泛的應用，顯示出良好的應用前景。

二、設(shè)備原理

真空磁懸浮熔煉方法，是通過高頻或中頻交變磁場，在金屬熔煉中形成與重力相抵消的電磁力，使熔體懸浮，與坩堝內(nèi)壁脫離方法是一項集電磁學、流體學、熱力學、力學、物理化學及冶金等多學科于一體的綜合冶金技術(shù)。因此受到了人們廣泛的觀注，在許多材料制備領(lǐng)域得到應用。由于磁懸浮的作用，使熔體與坩堝內(nèi)壁脫離接觸，這樣熔體與坩堝壁之間的散熱行為由傳導散熱改為輻射散熱，從而導致散熱速度聚減，使熔體可達到很高的溫度（1700～2500℃），宜于熔煉高熔點金屬或其合金。更重要的方面是：熔煉時爐料的懸浮將有效防止爐料與坩堝壁接觸所帶來的污染。宜于獲得高純度或極活潑的金屬。

三、主要技術(shù)參數(shù)

1、設(shè)備總功率：≤120Kw

2、懸浮電源功率：≤100KwIGBT懸浮專用電源

3、容量：水冷銅坩堝，500-1000g（以鋼液7.8克/立方厘米計算）

4、輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz

5、冷態(tài)極限真空度：5.0×10E^-4Pa

6、熔煉溫度≤2100℃（根據(jù)材料熔點不同熔煉溫度不同）

7、水冷銅坩堝≤￠60*80 熔煉溫度低于2100度的金屬合金（根據(jù)熔煉材料定）

8、可充保護氣≤0.03Mpa

9、控制方式：操作模擬屏+PLC,配置手動操作按鈕

10、操作模式：主要閥門氣動、電動