LMP-4S型自動(dòng)磨拋機(jī)為雙盤臺(tái)式磨拋機(jī)，跟據(jù)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，采用工藝技術(shù)，研發(fā)制造一款中心加力與單點(diǎn)加力為一體的新型研磨拋光設(shè)備

LMP-4S型自動(dòng)磨拋機(jī)為雙盤臺(tái)式磨拋機(jī)，跟據(jù)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，采用工藝技術(shù)，研發(fā)制造一款中心加力與單點(diǎn)加力為一體的新型研磨拋光設(shè)備。

具備磨拋盤旋轉(zhuǎn)方向可任意選擇、磨拋盤可快速更換；多試樣夾試器，同時(shí)具體氣動(dòng)單點(diǎn)加載和中心加載功能。本機(jī)采用了的微處理器控制系統(tǒng)，使得磨拋盤、磨拋頭的轉(zhuǎn)速實(shí)現(xiàn)無(wú)級(jí)可調(diào)，制樣壓力、時(shí)間設(shè)定直觀、便捷。只需更換磨拋盤或者砂紙和織物即可完成磨、拋工序的操作。從而使本機(jī)展現(xiàn)了更加廣泛的應(yīng)用性。具有轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)、安全可靠、噪音低及采用鑄鋁底座增加了磨拋的剛性等特點(diǎn)。

本機(jī)帶有水冷卻裝置，可以在研磨時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻，以防止因試樣過(guò)熱而破壞金相組織并隨時(shí)將磨粒沖刷排走；再配以玻璃鋼外殼和不銹鋼標(biāo)準(zhǔn)件，在外觀上更加美觀大方，并提高了防腐、防銹性能且易清潔。

適用于對(duì)金相試樣的粗磨、精磨、粗拋光至精拋光過(guò)程進(jìn)行自動(dòng)制樣。是企業(yè)、科研單位以及大專院校實(shí)驗(yàn)室的理想制樣設(shè)備。

主要技術(shù)指標(biāo) Main Specifications

磨拋盤直徑：φ250mm（可訂制φ230mm、φ300mm）

磨拋盤轉(zhuǎn)速：50-1000 r/min（無(wú)極調(diào)速）以及300 / 600 / 900 r/min（3級(jí)定速）

磨拋盤轉(zhuǎn)向：可調(diào)正反轉(zhuǎn)選擇

磨拋頭轉(zhuǎn)速：5-150 r/min（無(wú)極調(diào)速）

制備樣數(shù)量：6個(gè)

輸入氣源：0.4-0.7Mpa，

制 樣 時(shí)間：0-3000 S

制樣壓力：?jiǎn)吸c(diǎn)20-70N   中心150-300N

試 樣 直徑：出廠標(biāo)配φ30mm（可訂制直徑φ22-φ45mm）

輸 入 電壓：?jiǎn)蜗?AC220V  50Hz

輸 入 功率：1.1KW

外 形 尺寸：735*570*590mm

凈      重：100KG

毛      重：120KG

各部件功能簡(jiǎn)介 Brief introduction of each component function

磨拋頭：內(nèi)含機(jī)械電氣控制，是整機(jī)組成的重要部分。

磨拋頭控制面板：可顯示磨拋頭轉(zhuǎn)速，磨拋壓力，磨拋時(shí)間，切換中心壓力與單點(diǎn)壓力切換更改語(yǔ)言等。旋轉(zhuǎn)編碼器或點(diǎn)擊屏幕數(shù)值將調(diào)節(jié)磨拋參數(shù)。

磨拋盤：也稱“工作盤”，是磨拋試驗(yàn)的重要組成部分，將砂紙、絨布等耗材固定在上面，對(duì)試樣進(jìn)行磨拋。

夾持器：本機(jī)具備兩種夾持器，一種單點(diǎn)力夾持器，另一種中心力夾持器。分別對(duì)式樣進(jìn)行不同的加持。

冷卻水嘴：磨拋過(guò)程中可對(duì)試樣進(jìn)行沖洗；可根據(jù)需要開關(guān)或轉(zhuǎn)動(dòng)。

擋水圈：磨拋過(guò)程中防止水外濺。

磨拋機(jī)控制面板：對(duì)工作盤進(jìn)行轉(zhuǎn)速，方向及三級(jí)定速設(shè)置；整機(jī)啟動(dòng)、停止控制。

裝 箱 單 Packing List