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簡(jiǎn)介：提拉機(jī)是一款專門為液相制備薄膜材料而設(shè)計(jì)的精密儀器，可在不同液體中浸漬提拉生長(zhǎng)薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)；對(duì)鍍膜基質(zhì)無(wú)特殊要求，運(yùn)行穩(wěn)定，...

簡(jiǎn)介：DE300電子束蒸發(fā)系統(tǒng)LOADLOCK預(yù)真空進(jìn)樣室(可選)前開(kāi)門蒸發(fā)腔體冷凝泵和干泵多坩堝位旋轉(zhuǎn)電子槍zui大6”基片基片旋轉(zhuǎn)基片偏壓(可選)離子源清洗基片(可選)基片加熱1000度(可選)晶振...

簡(jiǎn)介：浸漬鍍膜機(jī)(Dip-Coater)儀器用途：用于溶液中的物質(zhì)在基片上的成膜儀器原理：固體基片在沒(méi)有表面壓縮時(shí)，單一的浸入溶液，然后從溶液中退出，溶液中的材料就沉積到基片表面。

簡(jiǎn)介：TheDE400DThermalEvaporatorisassembledwithmultiplethermalevaporationsource,thesubstrateismountingon...

簡(jiǎn)介：TheDE400DElectronBeamEvaporatorisassembledwithonee-beamsource,thesubstrateismountingonthetopofthec...

簡(jiǎn)介：DE400電子束蒸發(fā)儀配置一個(gè)電子束蒸發(fā)源，基片架裝于腔體側(cè)面水平轉(zhuǎn)動(dòng)的軸上，基片可以改變鍍膜角度

簡(jiǎn)介：前開(kāi)門濺射腔體冷凝泵和干泵1個(gè)6”磁控濺射源射頻電源側(cè)面濺射zui大6”基片基片水冷PID濺射壓力控制系統(tǒng)手動(dòng)或自動(dòng)控制高速率濺射二氧化薄膜

簡(jiǎn)介：DE500磁控濺射儀主要包括濺射腔體，4個(gè)濺射源和一個(gè)樣品臺(tái)可裝載并濺射zui大六英寸樣品，系統(tǒng)極限真空度10-8托，可用于濺射金屬、半導(dǎo)體及介質(zhì)材料，可用于濺射合金及多層薄膜材料，特別的是可以維...

簡(jiǎn)介：太陽(yáng)能集熱管（光熱管）浸漬提拉鍍膜設(shè)備專門為用于溶膠-凝膠浸漬提拉法對(duì)太陽(yáng)能集熱管、光熱管的表面鍍膜而設(shè)計(jì)。

簡(jiǎn)介：德儀科技有限公司專業(yè)進(jìn)口美國(guó)磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)和脈沖激光真空薄膜沉積設(shè)備，以及磁控濺射源/電源、電子束蒸發(fā)源、濺射靶材和蒸發(fā)材料等。十幾年來(lái)，憑著的品質(zhì)，*的技術(shù)和周到的技術(shù)服務(wù)，德儀公...