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簡介：DE400D熱阻蒸發(fā)儀可配置一個多組蒸發(fā)源，基片架裝于腔體頂部旋轉或腔體側面水平轉動的軸上基片可以改變鍍膜角度

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簡介：DE500磁控濺射儀主要包括濺射腔體，4個濺射源和一個樣品臺可裝載并濺射zui大六英寸樣品，系統(tǒng)極限真空度10-8托，可用于濺射金屬、半導體及介質材料，可用于濺射合金及多層薄膜材料，特別的是可以維...

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