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日本理學(xué)連續(xù)波長色散X射線熒光光譜儀ZSX Primus 400-華普通用

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Rigaku 的 ZSX Primus 400 連續(xù)波長色散 X 射線熒光 (WDXRF) 光譜儀專為處理非常大或重的樣品而設(shè)計(jì)。

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連續(xù)波長色散X射線熒光光譜儀

Rigaku 的 ZSX Primus 400 連續(xù)波長色散 X 射線熒光 (WDXRF) 光譜儀專為處理非常大或重的樣品而設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)可接受直徑為 400 毫米、厚度為 50 毫米和質(zhì)量為 30 千克的樣品,非常適合分析濺射靶材、磁盤,或用于多層薄膜計(jì)量或大型樣品的元素分析。

優(yōu)點(diǎn)

帶有定制樣品適配器系統(tǒng)的 XRF,適應(yīng)特定樣品分析需求的多功能性,可使用可選適配器插件適應(yīng)各種樣品尺寸和形狀。憑借可變測量點(diǎn)(直徑 30 毫米至 0.5 毫米,具有 5 步自動選擇)和具有多點(diǎn)測量的映射功能以檢查樣品均勻性

具有可用相機(jī)和特殊照明的 XRF,可選的實(shí)時攝像頭允許在軟件中查看分析區(qū)域。

仍保留了傳統(tǒng)儀器的所有分析能力。


安全性

采用上照射設(shè)計(jì),樣品室可簡單移出,再不用擔(dān)心污染光路,清理麻煩和增加清理時間等問題。


應(yīng)用領(lǐng)域

固體、液體、粉末、合金和薄膜的元素分析:

濺射靶材組成.

隔離膜:SiO2、BPSG、PSG、AsSG、Si?N?、SiOF、SiON等。

 k 和鐵電介質(zhì)薄膜:PZT、BST、SBT、Ta2O5、HfSiOx

金屬薄膜:Al-Cu-Si、W、TiW、Co、TiNTaN、Ta-Al、Ir、Pt、Ru、Au、Ni等。

電極膜:摻雜多晶硅(摻雜劑:B、N、OP、As)、非晶硅WSix、Pt等。

其他摻雜薄膜(As、P)、困惰性氣體(Ne、ArKr等)、CDLC

鐵電薄膜、FRAM、MRAM、GMRTMR;PCM、GST、GeTe

焊料凸點(diǎn)成分SnAg、SnAgCuNi

MEMSZnOAlN、PZT的厚度和成分

SAW器件工藝AlN、ZnO、ZnSSiO 2(壓電薄膜)的厚度和成分;AlAlCu、AlScAlTi(電極膜)


■ 技術(shù)參數(shù)

大樣本分析 400 毫米(直徑), 50 毫米(厚度),高達(dá) 30 千克(質(zhì)量)

樣品適配器系統(tǒng)適用于各種樣本量

測量點(diǎn)30 毫米至 0.5 毫米直徑,5步自動選擇

映射能力,允許多點(diǎn)測量

樣品視圖相機(jī)(可選

分析范圍Be - U

元素范圍:ppm  %

厚度范圍:sub ?  mm

衍射干擾抑制(可選單晶襯底的準(zhǔn)確結(jié)果

符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)SEMI、CE標(biāo)志

占地面積小以前型號的 50% 占地面積






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