新的光學(xué)系統(tǒng)令 ECLIPSE煥發(fā)新風(fēng)采
ECLIPSE 顯微鏡機(jī)身采用模塊化制造，可滿足多領(lǐng)域的工業(yè)應(yīng)用，其中包括半導(dǎo)體器件、封裝、FPD、電子器件、材料和精密模具制造等。
ECLIPSE LV 系列經(jīng)過不斷的發(fā)展完善并配備了新的光學(xué)系統(tǒng)和功能，可根據(jù)觀察方法和目的 選擇支架裝置和照明裝置以滿足多種觀察需求。
用戶可以選擇使用電動和手動操控模式以及反射照明專用模式和反射／透射組合照明模式以便滿足任何應(yīng)用需求。
CFI60-2 經(jīng)過改進(jìn)的光學(xué)性能
以的高數(shù)值孔徑和長工作距離設(shè)計(jì)理念而著稱的尼康 CFI60 光學(xué)系統(tǒng)；
經(jīng)過進(jìn)一步改進(jìn)，具有的長工作距離、色差校正性能和更輕的重量。
輕松的操作 與數(shù)碼相機(jī)集成
現(xiàn)在可以使用數(shù)碼控制裝置來檢測包括物鏡信息在內(nèi)的顯微鏡信息，以及對顯微鏡進(jìn)行電動操作，以更高效地進(jìn)行觀察和圖像拍攝。
特點(diǎn)：
觀察方法
可支持多種觀察方法：明場、暗場、偏光、微分干涉、落射熒光和雙光束干涉測量等。
半導(dǎo)體（IC晶片）
從物鏡到照明系統(tǒng)，LV-N系列采取了的防眩光措施，確保生成明亮、高對比度的圖像。
半導(dǎo)體（IC晶片）
采用尼康設(shè)計(jì)理念開發(fā)的物鏡暗場照明系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)明亮的暗場觀察，從而可對標(biāo)本差異和缺陷進(jìn)行高靈敏度的檢測。
基板
可使用適合標(biāo)本觀察的標(biāo)準(zhǔn)型和高對比度型DIC插片。LV-N系列十分適合觀察設(shè)備和精密模具中的細(xì)微差異等應(yīng)用。
基板（焊點(diǎn)）
LV-N系列在觀察有機(jī)EL或安裝的基板等具有熒光性質(zhì)的標(biāo)本時表現(xiàn)出了的性能。
礦物質(zhì)
LV-N系列十分適合觀察具有雙折射性質(zhì)的標(biāo)本，例如：容易失真的液晶或塑料/玻璃等。
云母
LV-N系列可使用Michelson(TI)和Mirau(DI)反射型雙光束干涉測量法。當(dāng)配合使用測微計(jì)目鏡時，可在不接觸標(biāo)本的情況下檢測和測量標(biāo)本的細(xì)微差異。
