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OTF-1200X-IR-IISL( 雙溫區(qū)紅外加熱快速熱處理爐

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OTF-1200X-IR-IISL是一款雙溫區(qū)紅外加熱快速熱處理爐,其爐管直徑為4英寸,樣品臺滑軌周圍嵌有可伸縮波紋管,允許樣品在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下移動。此款設(shè)備可使樣品zui大升溫速率達(dá)到50℃/S,zui大冷卻速率達(dá)到10℃/S此款設(shè)備不僅可對樣品進(jìn)行快速熱處理,還可采用HPCVD方法來生長二維晶體(一個加熱區(qū)用來盛放固體蒸發(fā)原料,另一個加熱區(qū)用于沉積樣品)。

詳細(xì)信息 在線詢價

OTF-1200X-IR-IISL是一款雙溫區(qū)紅外加熱快速熱處理爐,其爐管直徑為4英寸,樣品臺滑軌周圍嵌有可伸縮波紋管,允許樣品在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下移動。此款設(shè)備可使樣品zui大升溫速率達(dá)到50℃/S,zui大冷卻速率達(dá)到10℃/S此款設(shè)備不僅可對樣品進(jìn)行快速熱處理,還可采用HPCVD方法來生長二維晶體(一個加熱區(qū)用來盛放固體蒸發(fā)原料,另一個加熱區(qū)用于沉積樣品)。
 

技術(shù)參數(shù)

爐體結(jié)構(gòu)

  • 雙層殼體結(jié)構(gòu),并帶有風(fēng)冷系統(tǒng),使殼體表面溫度低于60℃
  • 采用短波紅外燈管對樣品加熱,可達(dá)到快速加熱的效果
  • 兩個加熱區(qū),每個加熱區(qū)長度為195mm,總加熱區(qū)長度為390mm
  • 樣品臺滑軌周圍嵌有可伸縮波紋管,允許樣品在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下移動,以達(dá)到快速加熱和快速降溫的效果

電壓

  • AC380V,50/60Hz
  • zui大功率為24KW

加熱元件

  • 16根鹵素?zé)艄埽ㄖ睆?0mm,長度390mm)
  • 標(biāo)準(zhǔn)使用壽命2000小時(要根據(jù)加熱速率)

zui高工作溫度

  • 1100℃(<30 mins)
  • 1000℃(可連續(xù)工作)

控溫精度

+/ - 1℃

zui大加熱速率

50℃/min

zui大冷卻速率

10℃/min,冷卻溫度范圍1000~200℃

爐管

  • 高純石英管
  • 尺寸:Φ110(OD)×Φ106(ID)×740(L)mm

滑軌

  • 材料碳鋼表面鍍Cr
  • zui大滑動行程:400mm

熱電偶

  • 兩個K型鎧裝熱偶
  • 規(guī)格:1/4" Dia x 24" L

溫控系統(tǒng)


 

  • 兩個溫區(qū)分別由兩個獨立的溫控系統(tǒng)控制
  • 采用PID方式調(diào)節(jié)溫度,可設(shè)置30段升降溫程序
  • 設(shè)置有超溫和斷偶保護(hù)
  • 控溫精度為±1℃
  • 設(shè)備面板上帶有RS485通訊接口
  • 可選購PC控制模塊,可采用電腦來設(shè)置和顯示溫度曲線

真空法蘭

  • 卡箍式快速連接法蘭安裝在爐管兩端,以方便拆卸和安裝
  • 一個直徑1/4"的鎧裝K型熱偶通過左端法蘭伸入到爐管內(nèi)部的樣品臺下端
  • 右端法蘭上帶有KF25接口,以便于連接真空泵
  • 左端法蘭上安裝有滑軌,周圍嵌有可伸縮波紋管,允許樣品在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下移動

真空度

  • 10^-2 torr(采用機(jī)械泵)
  • 10^-4 torr (采用分子泵)
  • 可在本公司選購各種真空泵

尺寸

  • 1000mm×540mm×800mm

質(zhì)保

一年質(zhì)保期,終身維護(hù)(不包含爐管,加熱元件和密封圈)

質(zhì)量認(rèn)證

  • CE認(rèn)證
  • 所有電器元件(>24V)都通過UL/MET/CSA認(rèn)證
  • 若客戶出認(rèn)證費用,本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認(rèn)證或CAS認(rèn)證
         

使用注意事項

  • 爐管采用石英管,其只能在常壓或低壓環(huán)境使用,爐管內(nèi)部壓力需<0.02MPa(相對氣壓)
  • 若要向爐管內(nèi)通入氣體,氣瓶上必須安裝雙極減壓閥(可在本公司選購)
  • 進(jìn)氣流量必須小于200SCCM(或200ml/min)
  • 若爐管內(nèi)部處于真空環(huán)境,其設(shè)備使用溫度不可高于1000℃


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