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簡介：德儀科技有限公司專業(yè)進口美國磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)和脈沖激光真空薄膜沉積設備，以及磁控濺射源/電源、電子束蒸發(fā)源、濺射靶材和蒸發(fā)材料等。十幾年來，憑著的品質，*的技術和周到的技術服務，德儀公...

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簡介：DE400D熱阻蒸發(fā)儀可配置一個多組蒸發(fā)源，基片架裝于腔體頂部旋轉或腔體側面水平轉動的軸上基片可以改變鍍膜角度

簡介：LOADLOCK預真空進樣室（可選）前開門濺射腔體冷凝泵和干泵3個磁控濺射源直流、射頻或脈沖電源朝上或朝下濺射zui大6”基片基片旋轉基片偏壓（可選）基片加熱1000度(可選)多達四路工藝氣體PI...

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簡介：DE500磁控濺射儀主要包括濺射腔體，4個濺射源和一個樣品臺可裝載并濺射zui大六英寸樣品，系統(tǒng)極限真空度10-8托，可用于濺射金屬、半導體及介質材料，可用于濺射合金及多層薄膜材料，特別的是可以維...

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