嘉儀通晶化快速退火爐RTP-3-01系列采用紅外輻射加熱技術，可實現1吋(選配2吋)樣品快速升溫和降溫，同時搭配超高精度溫度控制系統(tǒng)，可達到好的溫場均勻性，對薄膜材料進行晶化快速退火處理，提高薄膜材料的均勻性及穩(wěn)定性。

嘉儀通晶化快速退火爐RTP-3-01系列采用紅外輻射加熱技術，可實現1吋(選配2吋)樣品快速升溫和降溫，同時搭配超高精度溫度控制系統(tǒng)，可達到好的溫場均勻性，對薄膜材料進行晶化快速退火處理，提高薄膜材料的均勻性及穩(wěn)定性。

晶化快速退火爐產品特點：

快速加熱和降溫: 可控升溫速率可達50 ℃/s，特定條件下可以達到100 ℃/s。冷壁水冷設計能夠達到較大的降溫速率，特定條件下可達30 ℃/s。

 精確控溫: 采用工業(yè)級溫控器進行PID精確控溫，目標溫度與設定溫度曲線一致性高，可實現室溫至1200 ℃的溫度精確控制。

 適應多種工藝環(huán)境: 滿足多種工藝氣氛下的熱處理（氮氣、氬氣等）。同時，通過選配真空泵，可以在真空條件下進行退火，真空度可達10^-3Pa。

 配備觀察窗口: 通過觀察窗口，可以實時觀察熱處理過程中的樣品變化。同時，可以結合相關測試方法進行原位測試分析。

 超高安全系數: 采用爐壁超溫報警系統(tǒng)和冷卻水流量報警系統(tǒng)，多方位保障儀器使用安全。

 國產退火爐：擁有自主研發(fā)技術和制造能力，能快速反應客戶售后需求。

晶化快速退火爐技術參數：

晶化快速退火爐客戶案例： 

清華大學使用嘉儀通1吋晶化快速退火爐給HfO₂薄膜做晶化退火，得到晶相一致晶粒較小的晶體，提高薄膜材料的均勻性及穩(wěn)定性。